四方达(300179.CN)

四方达:目前公司研发项目未涉及CMP抛光材料、CMP抛光液领域

时间:21-06-29 22:18    来源:同花顺

同花顺(300033)金融研究中心6月29日讯,有投资者向四方达(300179)(300179)提问, 请问董秘:贵公司研发是否涉足(CMP抛光材料、CMP抛光液这个领域)、(高效修磨轨道板金刚石砂轮和修磨轨道树脂砂轮)、

公司回答表示,您好,目前公司研发项目未涉及您所述领域,感谢您对公司的关注!

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